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掩膜版行业深度报告:光刻蓝本亟待突破国产替代大有可为

  掩膜版:电子制造之底片,晶圆光刻之蓝本凯时国际游戏。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版,按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(菲林凯时国际游戏、凸版凯时国际游戏、干版)凯时国际游戏凯时国际游戏,按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版凯时国际游戏凯时国际游戏、半导体掩膜版凯时国际游戏、触控掩膜版凯时国际游戏、电路板掩膜版凯时国际游戏。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶凯时国际游戏。在集成电路领域凯时国际游戏,光掩模的功能类似于传统相机的“底片”凯时国际游戏,在光刻机、光刻胶的配合下凯时国际游戏,将光掩模上已设计好的图案凯时国际游戏凯时国际游戏,通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上凯时国际游戏,进行图像复制凯时国际游戏,从而实现批量生产。国内掩膜版厂商的上游材料以及设备严重依赖日韩厂商。生产制造方面,掩膜版的制造工艺复杂,主要的生产工艺包括:光刻、显影凯时国际游戏凯时国际游戏、蚀刻凯时国际游戏凯时国际游戏凯时国际游戏、脱膜以及清洗

  ➢国产替代机遇:随着我国半导体产业占全球比重的逐步提升,我国半导体掩膜版市场规模也逐步扩大。目前国内厂商已量产 250nm 工艺节点的 6 英寸和8 英寸半导体芯片用掩膜版凯时国际游戏,正在推进 180nm 半导体芯片用掩膜版的客户测试认证,同步开展 130nm-65nm 半导体芯片用掩膜版的工艺研发和 28nm 半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划凯时国际游戏凯时国际游戏,逐步缩小与海外龙头企业的技术差距,加速国产替代进度。我们认为国内掩膜版行业的景气度有望持续旺盛,国产厂商有望迎来业绩的高速增长。

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